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深圳市天源表面技术开发有限公司(简称天源)是一家表面技术与镀膜材料研发企业:天源以表面工程、镀膜材料和新能源开发为其研究领域,产品广泛服务于各个高校及高新技术领域的企业,公司通过多年来基础和应用研究以及新产品开发,已形成了自己独立知识产权的技术和系列产品,同时公司还拥有一支高素质的研发、生产、管理和销售队伍,与国内外多所院校、研究所、企业有合作关系。公司现主要从事表面处理、真空镀膜材料及高技术产品研发,公司主要经营范围有:高纯真空镀膜材料、高纯金属、合金与稀土氧化物试剂、高效焊接材料、无机非金属材料以及提供真空离子镀膜与塑胶制品表面处理加工服务。 天源公司坚持以:“可靠的质量,完善的售后服务,崇高的信誉”为宗旨,凭着过硬的产品,合理的价格以及多年的创业历程,公司现已发展成为具有一定规模的专业性真空镀膜材料、稀土材料、金属氧化物、化工原料供应商,并且在湖南、深圳等地设有加工工厂,加工检测设备齐全,其中有:冶炼、热压、烧结、镀膜等设备,公司秉乘着:“诚信为本、信誉至上”经营理念,真诚希望成为您长期的合作商,并热忱欢迎新老客户的光临,希望以我们可靠的质量、优质的服务、和有竞争力的价格与您共同开拓市场,共创辉煌 公司主要经营产品: 一、真空镀膜材料 1.高纯溅射靶材 金属靶材:锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等…… 合金靶材: 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等…… 陶瓷靶材:ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氟化镁靶MgF2、氟化钙靶CaF2、氟化锂靶LiF2、氟化钡靶BaF2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs,磷化镓靶GaP,硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶,铌酸锂靶、锑化铟靶InSb、砷化铟靶InAs、碲化铟靶In2Te3、碲化铅靶PbTe、碲化铝靶AlTe、碲化镉靶CdTe、硒化镉靶CdSe、硒化铅靶PbSe、硒化铟靶In2Se3、硫化锗靶GeS、硫化铝靶Al2S3、硫化铅靶PbS、硫化镉靶CdS、硒化锌靶ZnSe、碲化锌靶ZnTe、磷化锌靶ZnP等… 稀土金属靶:镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等… 稀土陶瓷靶:氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶 金属膜电阻器用溅射靶材: 金属膜电阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu靶材包括高阻系列(ZYG)、中阻系列(ZYZ)和低阻系列(ZYC)、超低阻系列(ZYCD)。 2.高纯光学镀膜材料 氧化物:一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等… 氟化物:氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等… 硫化物:硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等… 天源公司自主研发的真空溅射靶材、光学镀膜材料广泛应用于装饰镀膜、工具镀膜、光学镀膜及镀膜玻璃工业与平板显视行业。生产的溅射靶材成分设计合理、表面平整光滑,具有良好的导电性,溅射时工作电流稳定,高阻靶材的底板焊接牢固适用,采用该靶材制作的电阻器,具有阻值集中、稳定性好,有良好的耐热、耐磨和抗氧化性能,电阻温度系数小等特点。其靶材的制备都是根据其材料特性来加工的:分热压烧结工艺法和真空熔铸工艺法,产品均具有纯度高,微观组织优异及利用率高等特点,靶型有:平面矩形,管形,圆盘形,环形,片状,粉状等,规格和成分还可以根据用户的具体要求来定做。
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